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活动简介

来这里,聆听来自产业界和学术界的最新研发成果,探讨最新技术动态!


国际先进光刻技术研讨会(IWAPS),基于中国,辐射全球。在国际光刻专家的鼎力支持下,在全球企业、高校、协会等支持下,IWAPS已形成了涵盖光刻设备、工艺、检测和测量、掩模和材料、计算光刻、设计与工艺协同优化、新型光刻技术等主题的国际先进光刻交流平台。


IWAPS持续欢迎国内外光刻相关企业围绕各自领域技术发展路线开展研讨交流,持续欢迎国内外高校和研究机构就技术发展难题贡献学术智慧和成果,持续欢迎有志于在这个领域奋斗的年轻工程师和学生热烈讨论,持续欢迎各个投资机构发现新机遇开拓新未来。


IWAPS是一个开放的学术交流平台,来这里聆听世界的学术声音,发现技术发展的瓶颈,提出您的学术观点。
 

关于报名、展览、赞助,您可以直接致信iwaps@ime.ac.cn进行咨询,亦可拨打电话:
010-82995816

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重要日期
  • 会议日期

    10月15日

    2024

    10月16日

    2024

主办单位
中国光学学会
中国集成电路
创新联盟
承办单位
中国科学院
微电子研究所
嘉兴南湖高新
技术产业园区
历届会议
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