281 / 2017-12-06 21:37:46
Substrate Termination Technique for Monolithically Integrated Lateral GaN-on-Si Power Devices
GaN-on-Si, Veritcal Leakage, Half-bridge circuit, Dynamic Ron
摘要待审
Hanyuan Zhang / Zhejiang University
In this work, the impact of the floating substrate on the current collapse of the lateral GaN-on-Si devices featuring symmetric vertical leakage has been investigated, which facilitates future evaluation of the dynamic performance of a monolithically integrated half-bridge. The floating substrate can provide enhanced BV, alleviated buffer-related dynamic RON degradation, and can possibly suppress the cross-talk particularly for the devices with symmetric vertical leakage.
重要日期
  • 会议日期

    05月17日

    2018

    05月19日

    2018

  • 12月08日 2017

    摘要截稿日期

  • 01月30日 2018

    摘要录用通知日期

  • 02月10日 2018

    初稿截稿日期

  • 02月10日 2018

    终稿截稿日期

  • 05月19日 2018

    注册截止日期

主办单位
IEEE
IEEE ELECTRONIC DEVICE SOCIETY
IEEE POWER ELECTRONIC SOCIETY
中国电源学会
中国半导体产业创新联盟
承办单位
西安交通大学
西安电子科技大学
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