活动简介
2016慕尼黑上海光博会同期举办的多个论坛，研讨会，培训班将为您带来更多行业相关资讯，光学技术大会（PHOTONICS CONGRESS CHINA）将在展会同期再次隆重登场，相信这些活动的举办能把科学、研发和产业应用紧密结合，赋予科研生产更多独特的实用价值。
征稿信息
作者指南
会议时间： 2016年3月15-16日
会议地点：上海新国际博览中心 W3-M10会议室、W3-M5会议室
主办单位：
中国光学学会光学测试专业委员会
慕尼黑博览集团
主要议题：
光学功能型面设计制造检测与应用
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重要日期
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会议日期
03月15日
2016
至03月16日
2016
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03月16日 2016
注册截止日期
联系方式
- Miss 洪燕
- sk******@mmi-shanghai.com
- +86*********
历届会议
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2017年03月14日 中国 上海市
2017“现代光学制造工程与科学”（上海）国际论坛
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