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活动简介
由哈尔滨工业大学、北京大学和美国代顿大学(University of Dayton,USA)共同主办,美国光学学会(OSA),中国光学学会(COS),中国国家自然科学基金委员会协办的2009年纳米光子学国际会议将于2009年5月11日至5月14日在中国哈尔滨友谊宫宾馆举行。 纳米制造技术是21世纪的关键技术之一,基于纳米制造技术的微纳结构在集成电路、光波导、生物光子学等方面都有很大的应用前景,将引起光子技术的巨大进步。
征稿信息

重要日期

2009-02-16
摘要截稿日期
2009-04-20
初稿截稿日期

征稿范围

会议主题 材料与器件专题 分子结构:聚合物、液晶、超分子 半导体:量子点、纳米棒、异质结构 光子晶体:色散关系调控及应用、滤波器、非线性光学、光子器件 等离子体激元:纳米粒子、纳米壳、多层透明金属 异向介质:纳米复合材料、手性介质、源和探测器 纳米加工技术专题 新型纳米加工技术 纳米压印技术 自组装 激光直写 干涉光刻 化学生长 刻蚀技术 纳米光学成像和纳米表征专题 新型纳米尺度光学成像设计 近场扫描光学成像 等离子体分辨增强 超分辨技术 应用专题 纳米光子学在能源方面的应用 纳米光子学在传感器方
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重要日期
  • 会议日期

    05月11日

    2009

    05月14日

    2009

  • 02月16日 2009

    摘要截稿日期

  • 04月20日 2009

    初稿截稿日期

  • 05月14日 2009

    注册截止日期

主办单位
中国光学学会
承办单位
哈尔滨工业大学
协办单位
中国光学学会
历届会议
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