中国真空学会第六届三次理事会暨2008学术年会

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活动简介

中国真空学会第六届三次理事会暨2008学术年会拟于2008年10月17日－20日在云南省昆明市召开。本次学术交流会主题是“科技创新、促进真空科技事业发展”。依照国际真空科学与技术联盟的会议安排方式，大会将设一个主会场和八个分会场。这八个分会场分别是：1、真空科学与技术、2、真空冶金与工程；3、表面科学与技术；4、纳米科学与技术；5、薄膜科学与技术；6、电子材料与器件；7、等离子体科学与技术；8、应用表面科学与技术。

征稿信息

重要日期

2008-08-30

摘要截稿日期

2008-10-18

初稿截稿日期

征稿范围

征文范围：　　1. 真空科学与技术、真空冷冻与保鲜；　　2. 表面科学与技术、应用表面科学与技术；　　3. 纳米科学与技术；　　4. 薄膜生长机理、制备技术和应用；　　5. 真空获得与测量、质谱分析与检漏；　　6. 真空冶金与表面工程；　　7. 电子材料与器件、真空微电子学；　　8. 等离子体物理与技术；　　9. 显示技术；　　10.其它相关科学技术。