以高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术，可以明显提高薄膜结构可控性，进而获得优异的薄膜性能，在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步，国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨，为其发展与应用带来了蓬勃动力！

中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织，于2017年提出在国内举办高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题研讨会，并连续在上海、兰州和深圳成功举办三届，交流报告数量和质量显著提升，交流内容涉及高功率脉冲磁控溅射过程中电子与离子的相互作用，深振荡、中频叠加等电源与阴极靶结构协同控制等基础研究，工艺参数对膜层性能的影响、工业化存在的主要问题及对策等。参会人员由80人迅速增加到200余人，通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业的对接，推动了我国高功率脉冲磁控溅射技术的发展。

近年来，国家对科技创新日益关注，习近平总书记多次强调创新的重要性，科技创新被提到了十分重要的位置。重庆作为中西部唯一的直辖市、国家先进制造业中心，在国家区域发展和对外开放格局中具有独特而重要的作用，必将为本次创新型会议提供良好的交流氛围；同时，本次具有技术前瞻性的学术会议在重庆召开，也将推动当地薄膜技术的发展进步。

经中国机械工程学会表面工程分会与西南大学材料与能源学院协商，定于2023年10月20～22日在重庆召开“2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”。热忱欢迎国内外从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会，同时，也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业参加会议和提供支持！