议题方向（不限于此）： 
专题一：微纳光子器件与系统 
本专题拟反映微纳光子器件及其应用系统领域的最新进展，重点包括微纳米结构、材料及其基本性质，光电材料与器件的加工与应用，光电与光子集成，微波光子器件及其集成技术，硅基光子器件，混合集成器件及其应用，光互连与光交换，光通信器件及应用系统，微腔激光器和纳米激光器，单光子源和半导体光子计数器件，有机光电器件，光纤光学与传感应用，表面等离子器件，光子晶体器件，量子点激光器与探测器件，纳米传感器件、干涉和衍射方法和全息散斑技术等。

专题二：先进制造中的光学工艺与材料 
本专题拟反映先进制造中的光学工艺与光学材料的最新进展，重点包括：激光与材料的相互作用机理，激光精密加工工艺与装备，激光高效制造技术与装备，电子束选区熔化，激光选区烧结，光固化，激光沉积打印等增材制造工艺与材料，表面等离子和纳米光子学，超快激光精密加工，超精光学表面加工工艺，复杂光学曲面加工，近场光学微细加工技术，超紫外曝光技术，光学材料熔制，全息光刻技术，光学研磨成型工艺，光学塑料成型技术，光场调控器件制备，光学加工系统设计，光学玻璃模压成型技术，特种光学玻璃和激光晶体制造与加工等。

专题三：传感与成像
本专题面向健康医疗、环境监测、国防军事等重点领域的生化传感与成像应用，邀请国内外知名专家研讨光子传感与成像技术，相关主题包括但不限于：光纤传感与成像技术（包括光栅型、干涉型等），光学微腔传感技术，荧光成像技术，微纳激光传感与成像技术，微流控芯片传感和成像技术，表面等离子体共振（SPR）传感技术，表面增强拉曼光谱（SERS）传感与成像技术，生化敏感材料，光子传感与成像系统及仪器化等。

专题四：发光与显示
本专题拟反映发光技术和显示技术的最近前沿进展。重点包括但不限于：新型光致发光材料与器件，新型电致发光材料与器件，新型有机发光材料和光电特性，量子点和纳米发光材料和器件，先进照明技术，发光二极管显示，液晶显示技术，三维立体显示技术，全息显示技术，投影显示技术，移动显示技术，触摸与交互显示技术，虚拟现实及增强现实技术，显示测量技术，显示制造技术，印刷显示技术等。

专题五：超构材料
超构材料，是一种人为构造的新型亚波长结构材料，具有超越自然材料的奇异物理特性，其基本思想是利用结构单元（称为“超级原子”或“超级分子”）的谐振特性，实现对材料等效参数的调控。经过国际学术界十余年的深入研究，今天超构材料领域正逐步走向工程化和实用化。本专题主要讨论超构材料在微纳光学领域的新理论、新技术及其应用。包括但不限于：超构材料吸收器/滤波器/反射器/偏振控制，超构材料波前调控，可调超构材料，超构材料有源光电器件，负折射，光学超分辨等。欢迎广大同行积极参与，为超构材料和微纳光学的发展出谋划策！

专题六：纳异质结构与量子光电子学
本专题拟反映纳米尺度异质结构（亦即低维异质结构）与量子光电子学研究的最新进展，重点包括：半导体量子点、量子线以及各种新型半导体纳异质结构的制备及其仿真，纳异质结构特性表征及相关器件物理，异维及渐变维度纳异质结构中的新现象与新效应，纳异质结构与微腔的耦合，纳异质结构电子态系理论，光电物理过程中的量子效应，单光子的发射、传输与探测，基础量子理论，基于纳异质结构与量子光电子学的各种新型器件及其应用等。

Workshop：光电子集成——跨越光电子技术创新的产业化鸿沟
光电子集成技术与应用近几年在国际上取得的标志性突破预示着新一代颠覆性技术的到来，从而引发了政府、投资机构和企业的积极响应和投入。与传统的分立器件技术和制造平台不同，集成芯片的研发与制造具有投资大、风险大和收益期望高的特点。这对整个行业即是巨大机会，也是极大挑战。如何跨越技术创新从实验室研发到产品和市场的“死亡鸿沟”，仍是业界必须面对和克服的难题。本会议将邀请行业内领军企业研发领导人、新创公司CEO以及学术界和投资界资深人士围绕如何跨越技术创新的产业化鸿沟的课题进行深入系统的交流与探讨。本会议所有的报告均为特邀报告。除了报告之外，会议将组织报告人的圆桌讨论作为会议的报告人和与会人员做一次圆桌会议。