近年来，随着科技进步及应用领域的不断扩展，薄膜技术蓬勃发展。高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术受到了广泛的关注和重视。高功率脉冲磁控溅射技术是最新发展起来的一种高离化率物理气相沉积技术,它利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来实现高金属离化率,在获得优异的膜基结合力、控制涂层微结构、降低涂层内应力、控制涂层相结构等方面都具有显著的技术优势。该技术已经在国外广泛研究，但在国内的研究尚处于起步阶段。中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织，已经成功举办了十多届全国表面工程大会和海峡两岸薄膜科技会议，聚集了一大批国内从事薄膜技术研究、教学和装备制造方面的专家和学者。为促进我国表面工程技术的发展，推动我国高功率脉冲磁控溅射技术的进步，经中国机械工程学会表面工程分会协商确定，于 2017 年 6 月 9-10 日在上海召开“高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用会议”。热烈欢迎从事薄膜技术研究与应用的科技工作者参会；同时，也欢迎有意推动我国薄膜技术发展的企业为会议提供支持！