New high-strength and heat-resistant Al alloy design enabled by additive manufacturing phase engineering
第10届表面工程国际会议
Ji Gang Université de Lille
PB /PB
2026年10月18日 09:30~10:00
仅限参会人 大会报告
Surface and Interface Engineering of Metal–Ceramic Composites for Extreme Drilling: From AI-Driven Design to Engineering Applications
第10届表面工程国际会议
Chang Keke Ningbo Institute of Materials Technology and Engineering,Chinese Academy of Sciences
S6 /S6
2026年10月17日 13:50~14:10
仅限参会人 特邀报告
Research on cold spraying in additive manufacturing and repair/remanufacturing
第10届表面工程国际会议
Li Wenbo Guangdong Academy of Sciences New Materials Institute
S4 /S4
2026年10月17日 13:30~13:50
仅限参会人 特邀报告
Mechanisms of Graphitized/Passivated Coupled Modified Amorphous Carbon Coatings on the Deep-sea Tribo-corrosion Characteristics
第10届表面工程国际会议
Lu Shiqi China University of Mining and Technology
S6 /S6
2026年10月17日 14:55~15:10
仅限参会人 口头报告
Fabrication and 1400 °C Thermal Shock Performance Study of Dense Y₂O₃ Coatings on Graphite Inner Walls by Long Laminar Plasma Spraying
第10届表面工程国际会议
Liu Senhui Xi'an Jiaotong University
S4 /S4
2026年10月17日 14:50~15:10
仅限参会人 特邀报告
Multi-Scale Synergistic Reinforcement Coatings for Extreme Environments
第10届表面工程国际会议
Lu Xiaolong Xi’an Jiaotong-Liverpool University
S4 /S4
2026年10月17日 17:15~17:35
仅限参会人 特邀报告
Research on Plasma Spraying Ceramic Coatings for Semiconductor Etching Equipment
第10届表面工程国际会议
Zhang Chao Yangzhou University
PA /PA
2026年10月17日 11:50~12:20
仅限参会人 大会报告
Low-speed Water Vapor Corrosion Behavior of YSZ-based High-temperature Abradable Seal Coating at 1050℃
第10届表面工程国际会议
Zhang Yiping Xi'an Jiaotong University
S4 /S4
2026年10月17日 15:25~15:40
仅限参会人 口头报告
Fabrication of Functional Modified Zeolite Washcoat for Radioactive Iodine Capture under High Humidity Conditions
第10届表面工程国际会议
He Qing Tianjin University
S2 /S2A
2026年10月17日 15:20~15:35
仅限参会人 口头报告
Mechanisms of Competitive Cl⁻/H2O Passivation at the Amorphous Carbon Tribo-corrosion Interface Based on Multi-Scale Simulation
第10届表面工程国际会议
Du Naizhou China University of Mining and Technology
S2 /S2A
2026年10月17日 15:05~15:20
仅限参会人 口头报告
