随着高端制造、集成电路、新能源等战略产业对薄膜性能与制备效率要求的日益提升，传统的真空镀膜研发与生产模式已难以满足材料体系创新与工艺精准调控的迫切需求。其挑战在于，(1)等离子体行为复杂且不易表征，导致真空工况与薄膜性能之间的联系难以被直接建立；(2)“真空设备工况-等离子体行为-功能薄膜性能”构成了一个高维参数空间，形成了非线性映射关系，传统的人类思维方式存在固有的局限性。对此，本文提出基于等离子体仿真技术建立虚拟真空镀膜系统，全方位模拟等离子体放电、输运、溅射、沉积行为，构建“真空设备工况-等离子体行为-功能薄膜性能”的关联关系。在此基础上，提出利用人工智能(AI)手段处理复杂的工艺参数（功率、气压、温度等），等离子体行为（成分、密度、能量等）与薄膜性能（力学、光学、电学特性等）之间的非线性关系，并进一步探讨了AI驱动在工艺窗口的快速优化、镀膜过程实时监控与故障诊断，以及薄膜材料的逆向设计中的应用。

真空镀膜技术,人工智能,等离子体仿真,“真空设备工况-等离子体行为-功能涂层性能”