Ti₃AlC₂ MAX相涂层兼具金属与陶瓷的优异性能，但超过800 °C的合成温度限制了其在温度敏感基材上的广泛应用。本研究采用高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）技术在Ti-6Al-4V基体上实现了Ti₃AlC₂涂层的低温可控制备，并系统探究了其电化学腐蚀行为与表面钝化机制。对比直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS的高电离率与高能粒子特性促进了纳米晶TiAl_x前驱体的形成，经700 °C退火后获得致密光滑的单相Ti₃AlC₂涂层，而DCMS涂层仅生成Ti₂AlC 相。原位XRD分析表明，Ti₃AlC₂相结晶起始温度低至450 °C，为迄今报道最低值。电化学测试显示，该涂层在3.5 wt.% NaCl溶液中表现出卓越耐蚀性，腐蚀电流密度低至5.74×10^-10 A·cm^-2，较基体降低两个数量级，且阻抗模量显著升高。微观表征与DFT计算相结合揭示了耐蚀机理：Al原子较低的空位形成能驱动了其优先扩散，表面形成连续致密的非晶Al₂O₃钝化膜（平均厚度4.07 nm）；膜生长遵循受氧离子向内迁移控制的高场模型，呈对数增长规律。此外，钝化膜下方的非晶扩散过渡区有效缓解了因Al损耗导致的结构失配应力，防止钝化膜层剥落。本研究不仅突破了Ti₃AlC₂涂层的低温制备瓶颈，阐明了其表面选择性钝化机制，为其在海洋等严酷腐蚀环境中的应用提供了理论依据与技术支撑。
 

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