阵列式空心阴极等离子体源低温碳离子注渗技术研究第十五届全国表面工程青年学术会议

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阵列式空心阴极等离子体源低温碳离子注渗技术研究

编号：327 访问权限：仅限参会人更新：2026-03-31 22:01:29 浏览：1次口头报告

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摘要

为了拓展奥氏体不锈钢低温(<450℃)渗碳技术的工业应用，亟待突破高密度、低成本的等离子体源技术，促进低温高效渗碳技术与装备的改进和发展。本研究在常规活性屏等离子体源渗碳技术基础上，发展了一种新的低温渗碳技术—阵列式空心阴极等离子体源碳离子注渗技术，所采用的空心阴极等离子体源由空间分布的石墨空心阴极阵列构成，在高功率脉冲作用下，实现低气压(<70 Pa)的CH₄和H₂混合气体放电，形成高密度、空间均匀的等离子体，通过试样上施加非扰动等离子体源放电的低负偏压(<250 V)，在试样周围建立均匀的高碳势场和温度场，满足奥氏体不锈钢低温渗碳需求，获得具有耐磨抗蚀复合作用的改性效果。