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DBD等离子体清洗技术应用研究
编号：87
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更新：2025-08-21 17:33:09 浏览：59次
张贴报告
报告开始：暂无开始时间（Asia/Shanghai）
报告时间：暂无持续时间
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摘要
随着半导体制造工艺中对洁净性能要求越来越高，等离子体清洗技术得到了广泛的应用。等离子体清洗技术具有工艺高效、无残留、环保的优点，DBD等离子体清洗技术因大面积稳定放电优势，应用于半导体元器件的清洗。本文基于国内外相关研究，对等离子体清洗技术原理、清洗机理进行解读，为半导体制造工艺过程中的DBD等离子体清洗装置设计提供参考。
关键词
半导体 DBD等离子体清洗 工程应用 放电模式
报告人
暂无
稿件作者
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重要日期
-
会议日期
09月19日
2025
至09月22日
2025
-
08月31日 2025
初稿截稿日期
主办单位
中国物理学会静电专业委员会
承办单位
南京信息工程大学
电磁环境效应国家级重点实验室
无锡研平电子科技有限公司
电磁环境效应国家级重点实验室
无锡研平电子科技有限公司
联系方式
- 范文晓
- fa******@nuist.edu.cn
- 187********
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