织构表面碳化硅超精密研磨的原子模拟
编号:58 访问权限:仅限参会人 更新:2022-09-09 16:07:45 浏览:436次 口头报告

报告开始:2023年04月23日 09:45(Asia/Shanghai)

报告时间:15min

所在会场:[A] 第十四届全国青年表面工程论坛一 [A1-1] 上午场

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摘要
利用分子动力学模拟研究了碳化硅的纳米织构表面在抛光过程中的性能表现,分析了不同尺寸的纳米织构表面对抛光表面质量、抛光力以及摩擦系数的影响,建立三体纳米抛光模型,并对两种不同形状的典型织构(沟槽和凹坑)进行对比。模拟结果表明:随着沟槽宽度和凹坑直径的增加,表面形貌(切屑体积)、抛光力和摩擦系数均得到改善,而且与非织构表面相比,沟槽宽度的增大使得抛光温度和系统能量变化减小,并发现当织构尺寸过小或者超过临界值时织构对改善抛光条件的作用大大减弱。通过对抛光后的表面形貌图分析得出合理参数的表面织构可以改善抛光中碳化硅的晶格变形和弹性形变以及摩擦磨损状况,为今后工业中提高碳化硅材料的应用提供重要理论指导和新思路。
关键词
表面织构;表面形貌;三体抛光;分子动力学;摩擦系数
报告人
戴厚富
副教授 贵州大学

稿件作者
戴厚富 贵州大学
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重要日期
  • 会议日期

    04月21日

    2023

    04月23日

    2023

  • 04月20日 2023

    初稿截稿日期

  • 04月23日 2023

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室
协办单位
中国科学院兰州化学物理研究所
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
中国科学院上海硅酸盐研究所
中国科学院金属研究所
广东省新材料研究所
大连理工大学
西安交通大学
北京科技大学
西南交通大学
哈尔滨工业大学
联系方式
  • 段金弟(中国机械工程学会表面工程分会)
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  • 蒋超(中国机械工程学会表面工程分会)
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  • 刘炼(武汉材料保护研究所有限公司)
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  • 田丰(武汉材料保护研究所有限公司)
  • ab******@126.com
  • 139********
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