氮气流速对反应磁控溅射制备TiAlN薄膜微观结构和摩擦学性能的影响
编号:400 访问权限:仅限参会人 更新:2023-03-28 12:27:22 浏览:406次 口头报告

报告开始:2023年04月23日 17:55(Asia/Shanghai)

报告时间:15min

所在会场:[N] 摩擦学表面工程论坛二 [N2] 下午场

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摘要
采用反应磁控溅射技术在Ti6Al4V上沉积了TiAlN陶瓷薄膜,系统研究了不同N2流速对TiAlN薄膜样品的微观结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响及其相互之间的变化规律。结果表明:随着N2流速的增加,薄膜以TiAlN相为主,硬度和弹性模量表现为先增加后降低,与H/E*和H/E*2变化趋势相同。当N2流速为16sccm时,薄膜具有最小的磨损宽度和最低的磨损率。随着N2流速由12 sccm增加到 24sccm,薄膜的磨损机制由最初的磨粒磨损和粘合磨损转变为严重塑性变形引起的磨粒磨损,这与薄膜的微观结构和力学性能有直接的关系。
关键词
N2流速;TiAlN薄膜;力学性能; 摩擦学性能
报告人
刘明泽
陆军装甲兵学院

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重要日期
  • 会议日期

    04月21日

    2023

    04月23日

    2023

  • 04月20日 2023

    初稿截稿日期

  • 04月23日 2023

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
武汉材料保护研究所有限公司
特种表面保护材料及应用技术国家重点实验室
协办单位
中国科学院兰州化学物理研究所
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
中国科学院上海硅酸盐研究所
中国科学院金属研究所
广东省新材料研究所
大连理工大学
西安交通大学
北京科技大学
西南交通大学
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联系方式
  • 段金弟(中国机械工程学会表面工程分会)
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