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持续高功率磁控溅射技术制备氧化铝硬质涂层
编号：82 访问权限：仅限参会人 更新：2021-11-24 09:56:10 浏览：277次 口头报告

报告开始：暂无开始时间（Asia/Shanghai）

报告时间：暂无持续时间

所在会场：[暂无会议] [暂无会议段]

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摘要
靶中毒、靶表面电弧和滞后效应一直是在反应磁控溅射技术沉积金属氧化物绝缘涂层中普遍存在的问题，因此高速沉积绝缘金属氧化物涂层仍然是技术性问题，如氧化铝涂层的制备。持续高功率磁控溅射(C-HPMS) 具有溅射速度快、抗靶中毒能力强等优点。本文采用C-HPMS技术制备透明非晶Al2O3薄膜，实验结果表明C-HPMS技术可以显著降低Al靶对氧气的敏感程度，导致靶表面中毒减少和抑制了靶表面电弧的产生。当靶基距为25cm时，透明氧化铝薄膜的沉积速率达到了313nm/min，实现了化学计量Al与O比0.3-1.55、可见光波段的透过率0~95.6%之间、和电阻率在101-1010之间的调控可调，并且制备的膜层对温度具有较高的稳定性，为制备不同电阻率的材料提供了一种新方法。
 
关键词
氧化铝涂层，C-HPMS，高速沉积，靶中毒，表面电弧
报告人
李熙腾
北京大学深圳研究生院

稿件作者
李熙腾 北京大学深圳研究生院
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重要日期

  • 会议日期

    12月15日

    2023

    至

    12月17日

    2023

  • 11月30日 2023

    初稿截稿日期

  • 03月08日 2024

    注册截止日期

主办单位
中国真空学会薄膜专业委员会
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