钛合金共植入TiN涂层的Ag/Ta比例可控,增强成骨和抗菌反应
编号:58 访问权限:仅限参会人 更新:2021-11-24 09:15:33 浏览:179次 口头报告

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摘要
将银(Ag)和钽(Ta)离子共注入到医用钛合金(Ti-6Al-4V)的氮化钛(TiN)薄膜中,通过控制注入时间和剂量,实现控制不同比例Ag/Ta (4:1, 2:1, 1:1),并研究不同比例Ag/Ta对TiN薄膜的细胞相容性和抗菌性能的影响规律。结果表明,Ag+和Ta+共注入的Ag/Ta-TiN样品对医用Ti-6Al-4V中毒性离子(V4+和Al3+)的释放有明显的抑制作用。Ag/Ta比为1:1时,耐腐蚀性能最高,成骨细胞生长最好,抗菌性能突出,体内无毒。Ag/Ta(4:1)-TiN的抑菌率最高,为95.7%。这些结果表明,银和钽共注入加上TiN涂层可以提高Ti-6Al-4V钛合金的细胞相容性和抗菌性能,而合适的Ag/Ta比例是改性的关键因素之一。
 
关键词
Ag/Ta离子共注入,抗菌性,生物性能
报告人
宋喜多
学生 天津师范大学

稿件作者
宋喜多 天津师范大学
赵梦鲤 天津师范大学
李德军 天津师范大学
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重要日期
  • 会议日期

    12月15日

    2023

    12月17日

    2023

  • 11月30日 2023

    初稿截稿日期

  • 03月08日 2024

    注册截止日期

主办单位
中国真空学会薄膜专业委员会
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