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磁控溅射法制备柔性导电薄膜性能测试与分析
磁控溅射,Cu/ITO,方阻,耐环境性能,机械耐久性
摘要待审
徐壮壮 / 安徽省合肥市合肥工业大学
王国栋 / 合肥工业大学

MOI(Metal On ITO)导电膜是一种导电材料,主要应用于终端产品边框较窄、对面电阻要求较高的触控显示场景,如消费电子等。本文采用磁控溅射技术在柔性材料PET上制备Cu(100nm)/ITO(40nm)/PET(125nm)薄膜。采用X射线光电子能谱仪、四探针测试仪、硬度计、百格刀对薄膜的基本性能进行了测试;对薄膜进行高低温和酸碱处理,测试了薄膜的耐环境性能;利用自建的弯曲和扭转测试装置,对薄膜的机械耐久性(弯曲、扭转)进行了测试。结果表明:室温时柔性薄膜方阻为:390mΩ/□;硬度等级为:6H(750g);附着力等级为:5B;高温85℃处理12h后,薄膜方阻变化很小(0.5%);低温-20℃、-80℃处理24h、100h后,薄膜方阻随着温度的降低和处理时间的增加而增加(最大为6%);酸(1mol/L HCL)处理2-15min后,薄膜方阻随着处理时间的增加而增加(最大为20.5%);碱(1mol/L NaOH)处理2-15min后,薄膜方阻随着处理时间的增加而增加(最大为21.8%);薄膜内、外弯曲临界半径分别为6mm、5mm,随着弯曲半径小于等于临界半径,薄膜方阻逐渐增大 (内、外弯曲最大方阻变化为5.1%、7.4%);在临界半径范围内,内、外弯曲经过多次循环(250-1500次)后,薄膜的方阻增大范围在6%以内;随着扭转角度的增大(6°-42°),薄膜方阻逐渐增大(最大方阻变化为9.2%)。

重要日期
  • 会议日期

    12月15日

    2023

    12月17日

    2023

  • 11月30日 2023

    初稿截稿日期

  • 03月08日 2024

    注册截止日期

主办单位
中国真空学会薄膜专业委员会
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