112 / 2023-11-17 13:16:07
钛掺杂SnSb4相变存储薄膜性能调控及机理研究
相变存储薄膜;掺杂;性能调控;相变机理
摘要待审
吴卫华 / 江苏理工学院
通过磁控共溅射法成功制备出不同Ti掺杂浓度的SnSb<sub>4</sub>相变存储薄膜,研究了不同Ti掺杂含量SnSb<sub>4</sub>薄膜在热致和光致作用下的相变行为,总结出Ti杂质对SnSb<sub>4</sub>薄膜结晶温度、析晶激活能、晶态电阻和相变速度的影响规律。从相结构和微结构角度阐述Ti掺杂SnSb<sub>4</sub>薄膜的相变性能调控机理,发现Ti杂质以非晶态形式存在于晶界,抑制薄膜结晶过程和细化晶粒尺寸,从而提高SnSb<sub>4</sub>材料的相变温度和晶态电阻,进而改善其非晶态热稳定性和RESET操作功耗。研究结果表明,Ti掺杂SnSb<sub>4</sub>薄膜材料在高速、高热稳定、低功耗相变存储器中有着巨大的应用潜力。
重要日期
  • 会议日期

    12月15日

    2023

    12月17日

    2023

  • 11月30日 2023

    初稿截稿日期

  • 03月08日 2024

    注册截止日期

主办单位
中国真空学会薄膜专业委员会
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