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阳极层离子源的改进及DLC涂层的制备
编号：365
访问权限：仅限参会人
更新：2020-12-08 14:39:16
浏览：581次
口头报告
报告开始：2020年11月15日 17:15（0）
报告时间：15min
所在会场：[B] 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A [B2] 下午
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摘要
阳极层离子源是用于输出气体等离子体的重要设备，在真空镀膜中用途广泛。然而，在放电的过程中，阳极层离子源的阴阳极表面会出现容易产生较严重离子沉积或溅射，产生了严重的污染，难以长期维持稳定高效的工作状态。鉴于此，本文从阳极层离子源的等离子体放电特性出发，利用等离子体仿真手段分析了电子和离子的运动轨迹，并以此对阳极层离子源进行了设备改进，大幅减小了阴阳极表面的污染。进一步利用改进的设备制备了DLC涂层，获得了厚度>50 μm，结合强度>70 N的高强度超厚DLC涂层。
关键词
离子源,等离子体仿真,DLC涂层,设备改进
报告人
崔岁寒
博士后 北京大学深圳研究生院稿件作者
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重要日期
-
会议日期
11月13日
2020
至11月16日
2020
-
10月31日 2020
提前注册日期
-
11月05日 2020
初稿截稿日期
-
11月16日 2020
注册截止日期
主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
联系方式
- 段金弟
- 20******@sina.com
- 139********
历届会议
-
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