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量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展
编号：275
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更新：2020-12-08 14:02:00
浏览：587次
口头报告
报告开始：2020年11月15日 09:40（0）
报告时间：15min
所在会场：[B] 分会场一：第十二届全国青年表面工程论坛A [B1] 上午
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摘要
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备工艺决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜，采用卷绕PECVD技术沉积无机层，湿法涂布工艺沉积有机层是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
关键词
量子点膜； 高阻隔膜 ；有机/无机多层膜；卷绕PECVD
报告人
秦丽丽
兰州空间技术物理研究所稿件作者
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重要日期
-
会议日期
11月13日
2020
至11月16日
2020
-
10月31日 2020
提前注册日期
-
11月05日 2020
初稿截稿日期
-
11月16日 2020
注册截止日期
主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
联系方式
- 段金弟
- 20******@sina.com
- 139********
历届会议
-
2023年04月21日 中国 武汉市
第十四届全国表面工程大会 -
2018年11月09日 中国 Kunming
第十二届全国表面工程大会暨第十届全国青年表面工程论坛 -
2016年10月23日 中国 成都市
第十一届全国表面工程大会 -
2016年10月22日 中国 成都市
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2014年10月28日 中国 武汉市
第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛 -
2014年10月01日 中国 武汉市
第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛 -
2010年04月26日 中国 北京市
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2008年04月01日 中国 武汉市
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