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等离子喷涂-物理气相沉积功能陶瓷涂层研究

等离子喷涂-物理气相沉积；功能陶瓷涂层

等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD）技术因其良好的涂层结构调控能力，在制备柱状结构热障涂层、致密陶瓷涂层方面有着非常广阔的应用前景，成为当前的研究热点。本文阐述了等离子喷涂-物理气相沉积的原理，重点介绍了采用等离子喷涂-物理气相沉积技术的几种应用场景，包括具有柱状结构的YSZ、GZO热障涂层；高致密透氧膜、环境障涂层以及特种结构的NiO功能陶瓷涂层。研究认为，PS-PVD技术可在大面积工件表面高效制备性能优异的特种功能陶瓷涂层，而其非视线沉积特点将使其在工业领域能够快速实现工程化应用，应用前景广阔。