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超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究
导电;消光;膜层
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德程 / 北京卫星制造厂有限公司
超高吸收导电消光膜层的制备及性能研究


程德 王景润 白晶莹 李思振 冯立 陈学成 郭中增

(北京卫星制造厂有限公司 北京 100094 chengde529@163.com)

摘要:通过微纳刻蚀在化学镀镍层表面制备具有导电-消光性能的无机膜层,研究溶液温度、pH、持续时间、热处理参数对膜层消光性能的影响规律,并测试膜层的微观形貌、消光性能、结合力、导电性、热循环性能以及空间环境稳定性。结果表明:通过优化后的溶液温度、pH、持续时间制备的超高吸收导电消光膜层全光谱吸收率最高达到0.988;通过热处理能够提高膜层的结合力和可清洁性,热处理后导电消光膜层全光谱吸收率可以稳定达到0.97以上,膜层接触电阻<5 mΩ,具有良好的导电性,膜层具有优异的热循环稳定性和空间环境稳定性。

关键词: 导电;消光;膜层



备注:口头报告

报告人:程德,13601284474,chengde529@163.com

 
重要日期
  • 会议日期

    11月13日

    2020

    11月16日

    2020

  • 10月31日 2020

    提前注册日期

  • 11月05日 2020

    初稿截稿日期

  • 11月16日 2020

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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