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ID / 提交时间

1278 / 2019-10-30 23:20:40

标题

磁控溅射钨薄膜的低能氘辐照效应

关键字

主题及专题

全体主题 > 聚变材料与技术

状态

摘要录用

作者

朱开贵 / 北京航空航天大学

摘要

具有不同微观结构的钨材料对其D辐照后的表面形貌变化以及D的滞留行为有着重要的影响。具有纳米结构的钨材料由于存在特殊的微观结构，可以改善并提高钨基材料的抗辐照性能。磁控溅射技术也是一种可以制备具有纳米晶或者超细晶结构的薄膜材料的工艺方法。本文采用磁控溅射制备在钨基底上的W薄膜样品，将W块体以及退火前后W薄膜同时进行D等离子体辐照，对辐照后样品的表面形貌及D的滞留及脱附进行了研究。